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开云Kaiyun-SKC solmics CMP研磨垫增设工厂,启动商业运行

开云Kaiyun-SKC solmics CMP研磨垫增设工厂,启动商业运行

作者:肥仔            发布时间: 2024-04-20

2021-09-24 ● 经由过程晶圆概况平展化提高集成度的高附加值材料,在全球企业垄断市场扩年夜韩国国产化; ● 2015年起共投资700亿韩元,在安城和天安扶植1、2工场,确保年产18万张产能。 近日,SKC(代表董事 李完在)旗下出产半导体平展化工艺用焦点零件CMP研磨垫(Chemical Mechanical Polishing PAD)的半导体材料、零件专业子公司SKC solmics天安工场最先贸易运营。加上早前已有的安城工场,SKC solm����kaiyun.txtics的年产能到达18万张,提高了CMP研磨垫的韩国国产化率。 SKC solmics位在忠南天安的CMP研磨垫2工场近日最先投入贸易运营。该工场在客岁投资470亿韩元建造,每一年可出产12万张CMP研磨垫。 2015年,SKC最先半导体材料事业,投资200亿韩元在安城龙月财产园建造了CMP研磨垫1工场,可年产6万张,正式开启CMP研磨垫事业。尔后,跟着产物需求增添,又新建2工场,总产能扩年夜至本来的三倍。 SKC solmics 天安工场CMP研磨垫制造工艺图 操纵机械人提高产物质量 利用聚氨酯材料出产的CMP研磨垫与CMP研磨液一路颠末暴光、蚀刻、沉积工艺,经由过程机械的、化学的感化对半导体晶圆概况进行研磨,是一种高附加值产物。作为提高半导体集成度所需的焦点材料,比来跟着半导体邃密化和工程数目增添,利用量也不竭增添。据半导体市场调研机构阐发,CMP研磨垫的全球市场范围至2023年将到达1.58万亿韩元。此中有90%以上由两家美国公司占有,手艺和专利壁垒高,新兴企业难以进入,需要调理材料物性和加工晶圆概况的高端手艺。 SKC半导体材料事业自2015年最先后,在已有的聚氨酯事业手艺和经验根本上,经由过程自立研发,前后在韩国国表里申请了200多项专利,确保了事业竞争力。 SKC solmics是具有CMP研磨垫原液制造配方的企业,而且具有微米级CMP研磨垫中可以自由调理加工尺寸和均一度的能力,这意味着可以快速研发并供给到达客户物性和接触面要求的CMP研磨垫。基在此,可以说SKC solmics为本来CMP研磨垫材料年夜部门依靠在进口的韩国本土出产做出了进献。 此前,SKC solmics在2016年成功开辟用在钨工艺的研磨垫,替换了客户利用的进口产物,在韩国率先实现用在铜工艺的研磨垫韩国国产化。比来又成功完成了高难度的氧化工艺研磨垫韩国国产化,提高了CMP研磨垫韩国国产化率。 SKC solmics 相干人士暗示:“ 天安工场将改变曩昔CMP研磨垫、空白光掩模出产首要依靠在进口的环境,成为鞭策半导体材料国产化的按照地。今朝,海外全球半导体系体例造商认证评估正在进行中,成功后我们将进军全球市场,为强化半导体材料供给链做进献。” * SKC,即爱思开希,是韩国三年夜跨国企业之一SK团体旗下的子公司,同时也是知名的全球制造商之一。SKC自1976年创建以来,始终不竭挑战改革,现在更测验考试跳脱原有薄膜、化学产物为中间的企业模式,尽力成为以移动出行、半导体、环保材料为中间的高附加值材料公司。与此同时,SKC也将2021年定为ESG推动元年,在环保材料等各项事业中奉行ESG价值内涵化,强化可延续经营。 上一条 下一条

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